объектива Ог; проектируемый диапозитив В помещается вблизи плоской поверхности второй линзы в особой подвижной рамке.
Эпи скоп ические приборы. В случае эпископической проекции осветительное устройство должно давать наибольшую и притом равномерную освещенность на проектируемой поверхности; весь световой поток, сосредоточенный на этой поверхности, рассеивается ею во все стороны, и только небольшая часть этого потока (от 0, 5 до 1%) попаРис. 4. дает в объектив, всегда заполняя все его отверстие; освещенность на экране оказывается меньше освещенности на проектируемой поверхности в несколько десятков тысяч раз при обычных увеличениях около 15 крат. На рис. 4 представлена схема того же эпидиаскопа, что и на рис. 3, но в установке для эпископической проекции.
Лампа Р с первой . линзой конденсора повернуты вокруг оси С и да — _ ют широкий пучок лучей, освещающих J отверстие М на дне | корпуса прибора; отверстие закрыто стеклом, к которому прижимается проектируемый рисунок или чертеж. Рассеиваемые рисунком лучи отражаются плоским зеркалом Q. с наружным отражающим слоем (для устранения двоения) и заполняют отверстие второго проекционного объектива О2. В более мощных эпископических приборах стайят две лампы по 1.000 W каждая и, кроме того, по сторонам рисунка располагают наклонные зеркала, усиливающие освещение объекта. На рис. 5 дана схема'хода лучей в эпидиаскопе фирмы К. Цейсс в случае эпископической проекции. Для перехода к диаскопической проекции нужно опустить зеркало М (рис. 6), направляющее весь пучок через конденсор К — плосковыпуклую линзу, над которой расположена рамка с диапозитивом и которая изображает кратер дуги во входном зрачке объектива О2. плоское зеркало N направляет пучок лучей на вертикальный экран.
В некоторых эпископических приборах для освещения проектируемой картины применяется другой прием: осветительная оптическая система отсутствует; картина помещается в вырезе шаровой или почти полушаровой коробки (рис. 7) и освещается непосредственно несколькими электрич. лампами, расположенными внутри коробки, а также и лучами, рассеиваемыми белыми внутренними стенками шара; в верхней части находится проектирующий объектив и над ним зеркало (шаровой эпископ).
Б. С. Э. т. XLVII.
130 Кинопроекционные приборы в оптич. части являются диаскопическими проекционными приборами, построенными по вышеизложенным принципам; для перемещения пленки с изображениями эти приборы имеют довольно сложное механич. устройство (см. Кинематография). — В точном машиностроении применяются специальные проекционные приборы для проектирования профилей шаблонов, винтовых калибров, зубчатых колес и т. п. точных изделий на экран, на котором начерчен в увеличенРис. 7. ном масштабе нормальный профиль. — Ми кропроекци онные прибор ы служат для проектирования на экран с большим увеличением микроскопии, препаратов (см. Микропроекция).
ПРОЕКЦИОННЫЙ ФОНАРЬ, см. Проекционные приборы.
ПРОЕКЦИЯ, геометрический термин, применяемый при определенном виде геометрических построений.
Проекция на прямую линию. Проекцией точки А на прямую Г называется основание перпендикуляра, опущенного из А на I. Проекцией отрезка АВ на прямую называется отрезок АХВХ, концами к-рого служат проекции А± и Вх концов данного отрезка.
’ Между отрезком АВ и его проекцией ЛХВХ имеет место соотношение А^В^АВ cos (р (1), где . (р — угол между прямыми АВ и ЛХВХ. Соотношение (1) остается верным и в том случае, когда отрезки на прямой АВ и на оси проекций являются направленными, т. е. когда отрезки одного направления считаются положительными, отрезки противоположного направления — отрицательными. В этом случае под Рис углом <р в формуле (1) следует понимать угол между положительными направлениями прямой АВ и оси проекций ЛХВХ (рис. 1). Проекцией ломаной линии называется алгебраическая сумма П. ее звеньев (рис. 2): пр. ABCDE=wp. АВ+пр. ВС+пр. CD i-np_. ВЕ=АХВХ + +BxCx+CiDx-DxBx=AxEx.
При этом определении П. замкнутой ломаной линии равна нолю.
Проекция на плоскость, а) Параллельная проекция. Параллельной П. фигуры (илитела) А на плоскость а (плоскость П.) называется фигура, получаемая в сечении с плоскоетью а проектирующих лучей, проходящих через все точки фив гуры А и параллельных D заданному направлению, к-рое называется направлением проектирования.
Если это направление перпендикулярно к пло- — в, С, РПХ скости проекций, то П.
Рис. 2. называется ортогональной. Между площадью В плоской фигуры и ее ортогональной проекцией б на какую-либо плоскость имеет место соотношение: <r=Bcos у, где <р — угол между плоскостью фигуры и плоскостью проекций. На свойствах параллельных П . основаны главные методы начертательной геометрии (см.): метод Монжа, аксонометрия и метод П. с числовыми отметками. — б) Цен5
